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Präparation lateral strukturierter magnetischer Schichten mittels Laser-Interferenz-Lithographie

Autor/in Peter Kimmel
Art der Arbeit Diplomarbeit
Abgabe November 1997
Seiten 99 Seiten, 6,0 MB
Hochschule / Bildungseinrichtung Technische Universität Kaiserslautern Deutschland
Note

Inhaltsangabe

Einleitung:

Das Studium der Eigenschaften von nanostrukturierten magnetischen Filmen hat in den letzten Jahren ein zunehmendes Interesse erfahren, vor allem im Hinblick auf künftige neue Anwendungen in Form magnetischer Speicher oder Sensoren. Ein Ziel ist die Verkleinerung der Leseköpfe von Festplatten, bei denen zur Zeit Flächen mit mehreren Mikrometern Ausdehnung zur Speicherung eines Bits beschrieben werden müssen. Das Volumen der weltweit ausgelieferten magnetischen Festplatten-Speicherkapazität steigt um ca. 40 % jährlich, alle drei Jahre verdoppelt sich die Speicherdichte [Si95]. Ein neues Konzept zum Erzielen höherer Speicherdichten ist etwa die von Chou et al. vorgeschlagene sogenannte "Quantendisk", bei der jedes Bit durch eine separate Einzeldomäne repräsentiert wird. Die Definition der Bitpositionen schon beim Herstellungsprozeß würde neben dem Vorteil kleinerer Schreib-/Leseköpfe deren präzisere Positionierung erlauben und würde den Einfluß durch Nachbarbits wegen des nichtmagnetischen Materials zwischen diesen 1-Bit-Inseln reduzieren. Eine weitere zentrale Anwendung werden MRAMs sein (magnetisches Random-Access-Memory), deren Entwicklung jetzt von mehreren führenden Herstellern magnetischer Speicher intensiv in Angriff genommen wird. Für eine weitere Verkleinerung der Strukturen müssen jedoch zunächst detaillierte Untersuchungen verschiedenster Probengeometrien und der dabei neu auftretenden Phänomene durchgeführt werden, wobei periodische Strukturen niedriger Dimensionalität mit Ausdehnungen von etwa 5 pm bis hinunter zu atomaren Größenordnungen von Interesse sind. Neben Drähten (Streifen) und Inseln (kleinen scheibenförmigen Flächen) werden dabei auch gezielt Probenbereiche mit ferromagnetischen Säulen oder mit kurzen Streifen hergestellt, wodurch sich definierte Magnetisierungsrichtungen und Domänenformen erzeugen lassen.

Gegenstand der Arbeit ist der Aufbau eines interferenzlithographischen Verfahrens, mit dem Streifen- und Inselstrukturen mit einer Periodizität bis hinab zu 176 nm großflächig (homogen bis 1 cm) erzeugt werden können.

Gang der Untersuchung:

Im 1. Kapitel der vorliegenden Arbeit werden die Grundlagen zur Laser-Interferenzlithographie skizziert, deren experimentelle Seite zusammen mit der Einrichtung eines Reinraums im 2.Kapitel beschrieben wird. Periodische Streifen- und Inselstrukturen, die mit dem neu aufgebauten Lithographiestand hergestellt worden sind, werden im 3. Kapitel vorgestellt. Ihre Abbildung erfolgte mit einem Rasterkraftmikroskop. Im 4. Kapitel wird der Transfer der Photolackgitter-Strukturen in ferromagnetische Filme behandelt, die mit Molekularstrahl-pitaxie hergestellt werden. Der Transfer ist mit einer vorhandenen Ionenstrahl-Ätzanlage durchgeführt worden. Verschiedene Methoden zur Kontrolle des Ätzprozesses werden in diesem Kapitel evaluiert. Abschließend erfolgt im 5. Kapitel die Charakterisierung der Proben mit Hilfe magnetischer Untersuchungsmethoden, wobei insbesondere strukturinduzierte Änderungen des Ummagnetisierungsverhaltens in leichter und schwerer Richtung untersucht worden sind. Für die Aufnahme der Ummagnetisierungskurven bei verschiedenen Streifenperiodizitäten und -breiten wird der magneto-optische Kerr-Effekt eingesetzt, zur Untersuchung von Spinwellen und möglichen Quantisierungseffekten dient die Brillouin-Lichtstreuung.

Inhaltsverzeichnis:

0. Einleitung 3
1. Vorstellung der lithographischen Verfahren 6
1.1 Einführung und konventionelle Methoden 6
1.2 Die holographische Lithographie 7
1.3 Aufbau und Verarbeitung der Photolacke 13
2. Einrichtung des Reinraums und Aufbau der Laser-Interferenz-Lithographie 18
2.1 Der Reinraum 18
2.2 Komponenten der Laser-Interferenz-Lithographie 22
2.3 Leistungsmessung 29
3. Herstellung von Photolackstrukturen und Messung ihrer Topographie 31
3.1 Vorbehandlung der Proben 31
3.2 Arbeit mit der Photochemie, Ermittlung der richtigen Lack-Verdünnung 32
3.3 Funktionsprinzip des Rasterkraftmikroskops 36
3.4 Ergebnisse 42
3.5 Versuche mit einem zweiten Photolack 52
4. Trockenätzen der resistbeschichteten Metallfilme 56
4.1 Überblick über die gebräuchlichen Ätzverfahren 56
4.2 Die Plasmastrahlquelle 60
4.3 Ergebnisse sowie Möglichkeiten zur Detektierung des Ätzstopps 63
5. Magnetische und elastische Charakterisierung der erzeugten Streifen 72
5.1 Auswirkungen der Strukturierung 72
5.2 Instrumentation 72
5.2.1 Magneto-optischer Kerr-Effekt 72
5.2.2 Die Brillouin-Lichtstreuung 74
5.3 Das Ummagnetisierungsverhalten 75
5.3.1 Domänen und Ummagnetisierungsmechanismen 75
5.3.2 Magnetische Anisotropien in dünnen Filmen 77
5.3.3 Experimentelle Ergebnisse und Diskussion 78
5.4 Die strukturinduzierte uniaxiale Anisotropie 84
5.5 Zonenfaltungseffekte der Oberflächenphononen auf korrugierten Si(111)-Oberflächen 86
6. Zusammenfassung und Ausblick 88
Literaturverzeichnis 91
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